一種對光敏感的混合液體
光刻膠，也稱為光致抗蝕劑或Photoresist，是一種對光敏感的混合液體，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成。
光刻膠在光的照射或輻射下（如紫外光、電子束、離子束、X射線等）其溶解度會發生變化。這種特性使得光刻膠在半導體、光電子、微電子等領域的製造工藝中有著廣泛的套用，特別是在積體電路、顯示面板和半導體分立器件的微細圖形加工作業中至關重要。
光刻膠的主要作用是在光刻工藝過程中作為抗腐蝕塗層材料，保護基片不受後續處理工序的侵蝕，並實現從掩膜版到基片上的圖形轉移。光刻膠分為正性和負性兩大類，正性光刻膠在曝光後被溶解，而未曝光部分留下來；負性光刻膠則在曝光後硬化，未曝光部分被溶解。此外，根據曝光光源和輻射源的不同，光刻膠可以分為紫外光刻膠、深紫外光刻膠、X射線膠、電子束膠、離子束膠等。