什麼是原子層沉積

原子層沉積(ALD)是一種先進的薄膜沉積技術，它能夠以單原子膜的形式將物質一層一層地鍍在基底表面。

這種技術主要用於研製前沿產品，其核心特點包括出色的保形性、埃級厚度控制、可調整的薄膜成分，以及自限性反應特性，這些特性使得每次反應僅沉積一層原子，從而在基底上形成固態薄膜，ALD技術在納米級尺度上精確控制物質成分和形貌方面表現出色，因此，它在微納電子、納米材料、半導體、能源轉換等領域具有廣泛的應用前景。