掩膜版，又稱光掩模板、掩模板、光學掩模板、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等，是微電子製造中光刻工藝所使用的圖形母版。
掩膜版主要由基板和遮光膜兩個部分組成，基板分為樹脂基板和玻璃基板，其中玻璃基板的主流產品為石英基板和蘇打基板，遮光膜分為乳膠和硬質遮光膜兩種。掩膜版的作用是在薄膜、塑膠或玻璃基體材料上製作各種功能圖形並精確定位，以便用於光致抗蝕劑塗層選擇性曝光，其圖形結構可通過製版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如雷射直寫光刻機、電子束光刻機等。掩膜版是晶片製造過程中的圖形「底片」，用於轉移高精密電路設計，承載了圖形設計和工藝技術等智慧財產權信息，是微電子製造過程中的圖形轉移母版，是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業生產製造過程中重要的關鍵材料。