光刻在半 導 體 製造中起 著至 關重要的作用，具 體可 參考如下：
實 現 圖形 轉移。光刻工 藝 將掩膜版上的 圖形精 確 轉移到 塗有光刻 膠的半 導 體晶片上，光刻 膠在 隨 後的刻 蝕工 藝中保 護被覆 蓋的膜 層免受破 壞， 從而在晶片上形成精 確的 圖案。
微 細加工的 關 鍵技 術。光刻技 術是一 種微 細加工技 術，使用紫外光或 電子束等 圖像信息 載 體，通 過光刻 膠的曝光和化 學 處理， 將 圖案精 確地 複製到晶片或介 質 層上， 這一 過程 對於 製造 積體電路、平面型 電晶體等微 電子 組件至 關重要。
決定 晶片性能。光刻技 術不 僅 決定了 晶片的 製程水平和性能水平，也是 現代半 導 體、微 電子、信息 產 業的基 礎，光刻技 術的 進步直接 關係到大型 計算 機 運作等高科技 領域的 發展。
此外，光刻技 術在整 個 晶片 製造 過程中 幾乎每 個步 驟都 發 揮 著重要作用。