光掩膜版的原材料主要 包括以下 幾 種：
基板。光掩膜版的基 礎 結 構，常用的基板材料 包括石英玻璃、 蘇打玻璃、硼 矽玻璃等。石英玻璃因其 熱膨 脹 係數小、高 純 淨度和低反射率，通常 用於 製作高精度掩膜版； 蘇打玻璃 則因其 較低的成本，常 用於中低精度掩膜版。
不透光材料。 用於遮 擋光 線，使得只有 設 計 圖案的部分能 夠透光， 從而在 後 續的 製造 過程中被 複製到基板上。 這些材料通常通 過 濺射等方法 鍍在基板下方，如 鉻 層。
光 學膜。 用於 調整和 最佳化光 線的透 過率，以 滿足特定的光刻要求。
化 學 試 劑。在光刻 過程中使用， 用於清 潔、 準備基板，以及 顯影和 蝕刻等步 驟。
此外，光掩膜版的 製造 過程 還 包括光刻、 顯影、 蝕刻和 脫膜等步 驟， 這些步 驟涉及使用光刻 膠、光 學系 統以及一系列化 學 處理 過程。