光阻塗布的原理主要包括以下幾個步驟：
塗布：首先，通過塗布頭或塗布機器將光阻液均勻地塗布在基材表面。
揮發：在塗布過程中，光阻塗布機通常採用旋塗方式，通過快速旋轉將多餘的塗料揮發掉，並在基板表面形成一層均勻、透明的光阻層。
離心作用：在旋塗過程中，由於離心力的作用，光阻液被均勻地塗布在基板上，形成同心圓狀的塗層。這種離心力的作用確保了光阻液在基板上的均勻分布。
乾燥和固化：塗布後的光阻層需要經過乾燥和固化處理，以形成穩定的光阻層，為後續的光刻工藝做準備。
通過以上步驟，光阻塗布機能夠在基板上形成一層均勻、透明且穩定的光阻層，為積體電路製造中的光刻工藝提供必要的準備。