臭氧層破壞的原因是什麼

臭氧層破壞的主要原因是由於人類大量使用氯氟烴（CFCs）、四氯化碳、哈龍類物質和氮氧化物等化學物質。

這些物質在大氣中積累，並在平流層受到紫外線照射時活化，從而與臭氧發生反應，導致臭氧層破壞。其中，氯氟烴是一種常用的人造化學物質，自1930年投入生產以來，特別是在第二次世界大戰後和20世紀60年代以後的大量使用，極大地加速了臭氧層的破壞。

此外，氯氟烴等化學物質在平流層中的分解會產生氯原子，這些氯原子能與臭氧發生反應，導致臭氧分解成氧氣，進一步加劇了臭氧層的損耗。