離子鍍是什麼

離子鍍是一種在真空環境中進行的物理氣相沉積(PVD)工藝。

這項技術涉及使用氣體放電來使氣體或被蒸發物質部分電離，形成帶電的離子。這些離子在轟擊基片表面時，會加速並撞擊基片，同時將蒸發物質或其反應物沉積在其上。離子鍍結合了蒸發鍍和濺射鍍的特點，具有膜層附着力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優點。它可以在金屬、合金、某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等表面形成薄膜。此外，離子鍍過程中使用的離子能量相對較低，因此對工件心部的影響較小，適用於多種材料和複雜形狀的工件鍍膜。