物理氣相沉積（PVD）是一種表面處理技術，主要通過在真空條件下，採用物理方法將材料源（如固體或液體）表面氣化成氣態原子或分子，或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或電漿）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。
PVD技術主要分為三大類：真空蒸鍍、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。此外，還有其他方法，如電弧電漿鍍膜、離子鍍膜和分子束外延等。主要的PVD設備包括真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。
PVD技術具有多種優點，如高硬度、低摩擦係數、良好的耐磨性和化學穩定性等。這項技術廣泛套用於電子、通信、汽車、航空航天等領域，用於製造各種高性能的薄膜材料。