物理氣相沉積
PVD鍍膜（物理氣相沉積）是一種在真空條件下，通過物理方法將材料源（如固體或液體）表面氣化成氣態原子或分子，或部分電離成離子，並通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有特定功能的薄膜的技術。
PVD鍍膜主要分爲三大類：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。其中，真空離子鍍膜技術發展迅速，已成爲當今先進的表面處理方式之一。PVD鍍膜技術廣泛應用於電子、光學、機械、建築、材料等領域，能夠實現導電、阻擋、增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護等多種特殊性能。
以上是PVD鍍膜技術的概述，希望對你有所幫助。