光致抗蝕劑
光刻膠，也稱爲光致抗蝕劑，是一種特殊的感光材料，能夠在光的照射下發生化學變化，進而影響其溶解度。
光刻膠主要由感光樹脂、增感劑和溶劑組成，是微電子技術中精細圖形處理的關鍵材料，廣泛應用於半導體、液晶顯示、印刷電路板等領域的細微圖形加工作業。在光刻工藝中，光刻膠作爲抗腐蝕塗層材料，通過塗覆、曝光和顯影等步驟，將掩膜板上的圖形精確地轉移到基片上。光刻膠分爲正性和負性兩種類型，正性光刻膠在曝光後被溶解，而未曝光部分保留；負性光刻膠則相反，曝光部分被保留，未曝光部分被溶解。此外，根據曝光光源和輻射源的不同，光刻膠可分爲紫外光刻膠、深紫外光刻膠、X射線膠、電子束膠、離子束膠等。