光敏印章的原理 在於利用特殊化 學合成材料的光敏感性，在 強光照射下 發生光氧化和 熱交 聯反 應。
這 種材料在接 觸 強光 時， 會迅速吸收光能 並 轉化 為 熱能， 導致材料表面 發生化 學反 應，形成一 層 堅硬、不能 滲透的薄膜。 這 樣，在印章表面不需要形成印 跡的地方就 會形成 這 樣的薄膜，而需要印 跡的地方 則因 為不受到光照，保持了原有的性 質， 從而完成印章的 製作。 這 種印章的特 點是成像清晰、快速 製作（曝光 時 間通常很短）、使用方便，且印 跡 幹得快，不需要使用印台。