掩模，也稱為掩膜或掩碼，是一種技術或組件，用於控製圖像處理的區域或過程。在不同的套用中，掩模可以有不同的形式和作用：
在光刻工藝中，掩模（也稱為光刻膠片）是承載有設計圖形的關鍵部件，它通過將光線引導到光刻膠上，從而將設計圖形轉移到光刻膠上。掩模的性能對光刻工藝的質量有直接影響。
在數字圖像處理中，掩模通常是一個與原始圖像具有相同維度的矩陣，其中的元素（通常為0或1）決定是否保留、修改或遮擋對應位置的圖像像素。掩模可以用於選擇特定區域、過濾數據、執行遮罩操作或套用各種圖像處理操作。
在單片機編程中，掩模（也稱為掩膜）是指將程式數據做成光刻版，在單片機生產過程中將程式嵌入其中。這種方法的主要優點是程式可靠且成本低，但缺點是批量要求大，每次修改程式需要重新製作光刻板。