瑞利公式解析度

瑞利公式用於描述光學系統，特別是光刻技術的解析度極限。

瑞利公式表明，解析度R與光源波長λ、物鏡的數值孔徑NA以及工藝因子k_1有關，公式為R=k_1 λ/NA，其中k_1是與光刻工藝相關的因子。為了提高解析度，可以採取的方法包括減小曝光波長、增大物鏡的數值孔徑或降低工藝因子k_1。