痕量水

痕量水是指在氣體、液體或固體中存在的極少量的水分。在半導體乾法機台中，即使在使用真空泵抽真空後，工藝腔室中仍然可能有一些殘留的氣體，這些氣體中可能含有水分子。此外，液體清洗過程中，可能會在晶圓的表面留下一些水分，雖然在清洗後通常會進行乾燥，但是可能仍然有一些水分附著在晶圓的微小縫隙內，當晶圓被傳入真空腔時，痕量水進入到設備中。半導體設備的內部表面可能會吸附一些水分子，尤其是對於一些具有較高比表面積的材料，其吸附能力更強。