PVD（物理氣相沉積）靶材的種類繁多，根據不同的應用場景和需求，可以分爲以下幾類：
金屬靶材：包括純金屬如鋁、鈦、銅、鉭等，以及合金靶材如鎳鉻合金、鎳鈷合金、銅錳合金、鉻鋁合金等。
多質靶材：如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、硅鋁、釩錸、鎢鉬等。
陶瓷化合物靶材：包括氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等。
半導體芯片常用靶材：如超高純度鋁靶材、鈦靶材、銅靶材、鉭靶材等，用於製備集成電路的關鍵原材料。
平面顯示器常用靶材：包括高純度鋁靶材、銅靶材、鉬靶材，以及摻錫氧化銦（ITO）靶材等，用於高清晰電視、筆記本電腦等產品的製造。
太陽能電池常用靶材：包括高純度鋁靶材、銅靶材、鉬靶材、鉻靶材，以及ITO靶材等，用於薄膜太陽能電池的製造。
信息存儲常用靶材：如鉻基靶材、鈷基合金靶材等，用於光驅、光盤等產品的製造。
工具改性常用靶材：如純金屬鉻靶材、鉻鋁合金靶材等，用於工具、模具等表面的強化。
電子器件常用靶材：如鎳鉻合金靶材、鉻硅合金靶材等，用於薄膜電阻、薄膜電容等產品的製造。
以上列舉了PVD靶材的一些主要類型，但實際上，PVD靶材的種類和應用範圍非常廣泛，可以根據不同的需求和技術要求進行選擇和定製。