透射電子顯微分析
TEM分析，即透射電子顯微分析，是一種利用高能電子束穿透樣品來形成圖像的顯微鏡技術。這種顯微鏡提供比光學顯微鏡更高的放大倍數和解析度，使其能夠觀察到小於0.2微米的亞顯微結構或超微結構。
在TEM中，高能電子束穿透樣品時，與樣品中的原子和電子相互作用，產生彈性散射、不彈性散射和吸收等多種效應。這些相互作用導致電子的能量和速度發生變化，從而產生不同的圖像襯度，如質厚襯度、明暗場衍襯象、晶格條紋象等。通過這些圖像，研究者可以分析樣品的形貌、組織和結構。
為了獲得清晰的圖像，TEM樣品通常需要製備成非常薄的切片，以便電子束能夠穿透。樣品製備方法包括機械削薄、電解拋光、離子切割等。TEM廣泛套用於材料科學、生物學、納米技術等多個領域。