光掩膜版或掩膜版
光罩，也稱為光掩膜版或掩膜版，是一種在半導體製造過程中使用的關鍵工具。以下是光罩的詳細介紹：
光罩主要由石英玻璃製成，並在其上鍍上一層金屬鉻和感光膠，形成感光材料。
光罩的作用是將設計好的電路圖形通過電子雷射設備曝光在感光膠上，被曝光的區域會顯影出來，形成電路圖形，類似於沖洗照片時利用底片將影像複製至相片上。
光罩是半導體光刻工藝中所需的高精密工具，其精度和可重複性對積體電路的性能有重要影響。
光罩的製造過程涉及將積體電路設計中心已設計好的電路版圖以同樣比例或減小比例轉化到一塊玻璃板上。
光罩檢測是確保光罩質量的關鍵步驟，通過影像掃描技術與先進的影像處理技術來捕捉圖像上的缺失。
以上是光罩的基本介紹，希望對你有所幫助。