掩膜（MASK）在晶片設計中是一個重要的概念，它指的是在晶片製造過程中使用的一種技術，用於保護晶片的敏感部位。掩膜技術類似於印刷工藝，可以在晶片上形成固定的圖案和阻燃層等，以保護晶片中的敏感元器件和電路不被損壞。具體來說，掩膜技術涉及將光敏樹脂塗在晶片表面，並通過控制光通過掩膜照射在晶片上，形成具有特定功能的器件。利用掩膜技術，可以為晶片的電路、電極和其他功能單元定製遮蔽層，確保晶片上各個功能模組之間的隔離，避免相互干擾和損壞。
在半導體製造中，許多晶片工藝步驟採用光刻技術，用於這些步驟的圖形「底片」稱為掩膜（也稱作「掩模」）。掩膜的作用是在矽片上選定的區域中對一個不透明的圖形模板進行遮蓋，使得下面的腐蝕或擴散過程只影響選定的區域以外的區域。