液晶製程大致可以分為以下幾個階段：
ITO圖形蝕刻和取向排列。這一階段包括在玻璃基板上形成TFT陣列和彩色濾光圖案。TFT陣列的製作涉及在硼矽玻璃基板上形成柵極材料膜，並通過掩膜曝光、顯影和乾法蝕刻形成柵極布線圖案。隨後，使用PECVD法形成SiNx膜、非摻雜a-Si膜和摻磷n+a-Si膜，再通過掩膜曝光和乾法蝕刻形成TFT部分的a-Si圖案。透明電極(ITO膜)的形成涉及濺射成膜、掩膜曝光和濕法蝕刻。彩色濾光片的製作主要是將微細顏料顆粒分散在透明感光樹脂中，然後通過塗敷、曝光和顯影工藝形成RGB三色圖案。
空盒製作和液晶灌注。在這一階段，將TFT玻璃基板與彩色濾光片貼合，形成液晶盒。在液晶層灌入後，兩塊玻璃基板通過高溫固化粘合穩定。
貼偏光片和成品檢測。完成空盒製作後，兩面都貼上偏光片，進行最終的產品檢測。
Array製程和Cell製程。Array製程主要負責TFT和CF的製作，包括TFT的製作和液晶電容、儲存電容等的部分走線。Cell製程是將Array製程完成的玻璃切割成單獨的LCD尺寸，並進行模組組裝。
這些階段共同構成了液晶顯示器的基本製造流程，每個階段都有其特定的技術和工藝要求，確保最終產品的質量和性能。