光刻機是一種用於製造微電子器件和集成電路的關鍵設備。
光刻機的工作原理是類似照片沖印過程，它使用特殊的光源將圖案投射到硅片上，通過精確控制光線，將設計好的圖案轉移到硅片上的光敏材料上，從而形成微米甚至亞微米級別的精細結構。光刻機在半導體工藝、集成電路、平板顯示器、光子學和微機械系統等領域發揮着核心作用。其工藝過程包括掩膜版上的圖案通過光線的曝光被印製到硅片上，這個過程需要經過多箇步驟，包括硅片的準備、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等，光刻機能夠以極高的精度和速度完成任務，是現代電子行業中不可或缺的一部分。