光敏印章的 製作方法通常 包括以下步 驟：
排版 設 計。使用 電 腦排版 軟體（如CDR或其他排版 軟體） 對需要刻制的印章 進行排版。
列印。 將排版好的印章 列印在硫酸 紙上。使用 雷射 印表機以 確保 列印 質量。
剪下。 將 列印好的硫酸 紙剪下 來，尺寸 應略大 於 圖 樣尺寸。
準備曝光膜。 剪下一 塊曝光膜，其尺寸 應大 於 圖 樣尺寸。
組 裝。在光敏印章 機的曝光盒 內，依次放置印章 墊、曝光膜和硫酸 紙。 確保硫酸 紙上的 圖 樣面朝下放置。
曝光。合上曝光盒子，然 後送入印章 機 進行曝光。曝光 時 間通常 為 幾 秒鐘，具 體 時 間 取決於印章 機的型 號和 設定。
添加印油。曝光完成 後， 將光敏印章 塗抹上光敏印油。只需 將印油 塗抹在 字型 處即可。
完成。等待印油吸收 乾透 後， 將光敏印章 裝入印章 殼中，至此一枚光敏印章 製作完成。
光敏印章的 製作需要一定的精 確性和操作技巧，以 確保印章的 質量和清晰度。