光掩膜版或光刻掩膜版
光罩，也被稱爲光掩膜版或光刻掩膜版，是微納加工技術和半導體制造中用於光刻工藝的關鍵部件。
光罩是在薄膜、塑料或玻璃基體材料上製作的各種功能圖形，並精確定位以便用於光致抗蝕劑塗層的選擇性曝光。在半導體制造中，光罩的作用類似於照相底片，它承載着電路設計圖案，並將這些圖案投影到硅片上，從而製造出集成電路。光罩通常由石英等材料製成，表面鍍有金屬鉻和其他感光材料，上面有設計好的電路圖形。光刻機通過光線透過光罩，將光罩上的圖案精確複製到晶圓上，這個過程對於確定集成電路的精度和複雜性至關重要。