掩模板，也被稱為光罩、光掩模、光刻掩模版或掩膜版，是光刻工藝中一個關鍵部件。它是一種高精密的工具，用於在光刻過程中轉移設計的圖形，並承載著圖形設計和工藝技術等智慧財產權信息。掩模板通常由基板和遮光膜組成，基板可以是樹脂、玻璃（如石英或蘇打玻璃）或金屬等材料，而遮光膜可以是乳膠或硬質材料，如鉻、矽等。
在光刻工藝中，光線透過掩模，將設計好的圖形精確地投射到光刻膠上，從而在晶圓或玻璃基板上形成特定的圖案。掩模板的性能對光刻工藝的質量有直接的影響。它們被廣泛套用於半導體、平板顯示、電路板、觸控屏等多個領域。在半導體器件製造中，掩模板用於製造電晶體、二極體、光電元件等器件；在積體電路製造中，它可用於製造晶片；在光刻技術中，掩模板可用於製造微型透鏡陣列、平板顯示器等。
此外，掩模板的精度和質量水平會直接影響最終下游製品的優品率。