掩模版是什麼

掩模版，又稱光掩模板、掩模板、光學掩模板、光掩膜、光刻掩膜版、光罩等，是微電子製造中光刻工藝所使用的圖形母版。

掩模版的主要作用是將設計者的電路圖形通過曝光的方式轉移到下遊行業的基板或晶圓上，從而實現批量化生產。它是平板顯示、半導體、觸控、電路板等行業生產製造過程中重要的關鍵材料，承載了圖形設計和工藝技術等智慧財產權信息。掩模版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，並通過曝光將圖形轉印到產品基板上，其功能類似相機「底片」，是晶片精度和質量的決定因素之一。