離子鍍膜是一種在真空環境中進行的表面處理技術，它通過在真空條件下利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離，並在這些電離的氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基片上。
這種技術結合了多種物理過程，包括輝光放電、等離子技術和真空蒸鍍技術，不僅顯著提高了鍍層的各種性能，而且大大擴展了鍍膜技術的應用範圍。離子鍍膜包括多種技術，如磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（也稱爲空心陰極蒸鍍法）和多弧離子鍍（也稱爲陰極電弧離子鍍）等。
此外，離子鍍膜具有多種優點，如提高鍍層的結合力、繞射性好、可鍍材料廣泛等，在許多工業領域都有應用。