cvd法是什麼

化學氣相沉積法

CVD法，即化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition)，是一種利用氣態或蒸汽態的物質在氣相或氣固界面上發生化學反應，生成固態沉積物的工藝過程。

這種技術主要用於製備各種薄膜，包括硬質合金車削類刀具的表面塗層，以及高純度金屬的精製、粉末合成、半導體薄膜等。CVD過程包括三個基本階段：物料汽化、運輸到基體附近和在基體上形成覆蓋層。反應器是CVD裝置最基本的部件，通過在反應器內形成溫度梯度，促進物料的傳輸和反應沉積。