X射線光電子能譜技術(XPS)是一種先進的分析技術，主要用於化學和電子材料研究領域。它通過使用X射線輻射樣品，使得原子或分子的內層電子或價電子被激發出來，這些被激發的電子被稱為光電子。通過測量這些光電子的能量，可以獲得樣品的相關信息，如元素成分、化學態、分子結構和化學鍵等。XPS可用於定性分析和半定量分析，從而確定樣品表面的化學成分和分子結構，以及表面元素含量或濃度。
此外，XPS技術對樣品的破壞性較小，尤其適用於有機材料和高分子材料的分析。它還可以進行深度剖析，提供材料表面以下幾納米至幾十納米深度的信息，而且結合離子剝離技術，可以實現更深入的分析。
XPS廣泛套用於化學成分分析、元素化學態分析、表面成分深度分析、化學反應動力學研究和薄膜和塗層分析等領域。在工業領域，XPS用於分析半導體、鈣鈦礦、金屬薄膜、自然氧化膜厚度、磁碟潤滑膜厚度等多種材料。