掩模，也被稱為掩膜或掩碼，是一種用於控製圖像處理區域或過程的特定圖像或物體。在光學圖像處理中，掩模可以是膠片、濾光片等；在數字圖像處理中，掩模是一個由0和1組成的二進制圖像，其中1值區域被處理，而0值區域不被包括在計算中。
掩模的主要用途包括：
提取感興趣區：使用預先製作的感興趣區掩模與待處理圖像相乘，得到感興趣區圖像，保持區域內圖像值不變，而區域外圖像值為0。
禁止作用：用掩模對圖像上某些區域作禁止，使其不參加處理或不參加處理參數的計算，或僅對禁止區作處理或統計。
結構特徵提取：用相似性變數或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結構特徵。
製作特殊形狀的圖像：通過使用掩模，可以創建具有特定形狀或圖案的圖像。
在半導體製造領域，掩模（也稱為掩膜）是光刻工藝中不可或缺的部件。它承載有設計圖形，通過光線透過這些圖形，將設計圖形透射在光刻膠上，從而完成微電子器件的製造。在投影式光刻機中，掩模（也稱為倍縮式掩模或reticle）位於會聚透鏡與投影透鏡之間，不與晶圓直接接觸。設計圖形會被縮小4到10倍（現代光刻機通常是4倍）後透射在晶圓表面。
此外，掩模的製作過程包括曝光、顯影、刻蝕等工藝，其中掩模的曝光常用掃描雷射束完成。經過曝光顯影後的鍍鉻玻璃板會通過濕法酸腐蝕去除暴露的鉻層，形成掩膜圖形。
總的來說，掩模在光學和數字圖像處理、半導體製造等多個領域都有著廣泛的套用，發揮著至關重要的作用。