C4F6，全稱為四氟己烯，是一種無色、無味、無毒的氣體，在大氣條件下呈現為壓縮氣體或液體。它是一種氯氟烴衍生物，由四個氟原子和兩個碳原子構成，化學式為C4F6。在工業中，C4F6主要被用於電子和半導體行業中的電漿刻蝕。以下是C4F6的特性：
高刻蝕速率和選擇性：C4F6具有高刻蝕速率和選擇性，適合對100 nm以下的電子線路進行蝕刻，性能較全氟碳氣體和NF3更好。
各向異性：C4F6具有各向異性，這使得它在蝕刻過程中能夠精確控制蝕刻方向。
高對光阻和氮化矽選擇比：與C4F8相比，C4F6具有更高的對光阻和氮化矽選擇比，這是蝕刻過程中的一個重要優點。
環境友好：C4F6的全球變暖潛能值(GWP)幾乎為0，這意味著它在環境方面的影響非常小。
套用廣泛：C4F6在先進制程技術層面有諸多蝕刻上的優點，使其成為一種重要的工業材料。
綜上所述，C4F6是一種具有高刻蝕速率、選擇性好、表面平整等優良特性的工業材料，尤其在電子和半導體行業中有著廣泛的套用。此外，它的環境友好性也使其成為了一種值得關注和使用的材料。