氧化銦錫靶材
ITO靶材，即氧化銦錫靶材，是一種在電子和光電子設備中廣泛套用的材料。
ITO靶材是由氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合後，經過一系列生產工藝加工成型，再經高溫氣氛燒結形成的黑灰色陶瓷半導體。這種材料能在保持高透明度的同時提供良好的電導性，使其成為製備透明導電薄膜的理想選擇。ITO靶材主要用於物理氣相沉積（PVD）過程中的薄膜沉積技術，特別是在液晶顯示器（LCD）、有機發光二極體（OLED）顯示面板、太陽能電池等套用中發揮著關鍵作用。ITO靶材在高溫氣氛燒結過程中形成，具有高度的折射率和透明性，適用於要求透明導電性能的套用。