掩膜，也稱為掩模或MASK，是微電子製造中的一個重要概念。
在半導體行業，掩膜是一種用於光刻技術的圖形「底片」，它可以在矽片上選定區域中遮蓋一個不透明的圖形模板，以便下面的腐蝕或擴散過程只影響特定區域。掩膜上的設計圖形通過光線透過，將圖案精確地複製到光刻膠上，其性能直接決定了光刻工藝的質量。
此外，在計算機圖像處理和電路板製造等領域，掩膜同樣扮演著關鍵角色。在圖像處理中，掩膜是一個與原始圖像大小相同的二值或布爾圖像，用於指定圖像的特定區域，以便進行特定的操作，如濾波、邊緣檢測或區域提取。例如，在遙感圖像處理中，可以通過定義一個n*n的矩陣來突出顯示特定的地物或標誌。
總的來說，掩膜是一種用於控制光刻、圖像處理或電路板製造中特定操作或處理的工具，它可以是物理的（如光刻技術中的膠片或濾光片），也可以是數位化的（如計算機圖像處理中的二維矩陣數組）。