蒸發鍍膜是一種在真空環境下進行的表面處理技術。
這項技術涉及將材料加熱至高溫狀態並使其蒸發，然後這些蒸發材料沉積在待處理物品的表面，形成一層均勻的薄膜。蒸發鍍膜的過程可以分爲幾個步驟，包括材料蒸發、氣體輸運和沉積。這種技術具有多種優點，包括能夠形成防腐、增強光學性能、提高機械強度和提高電子性能的薄膜。蒸發鍍膜技術已廣泛應用於光學、電子、航空等領域，例如在光學儀器、鏡片等物品表面形成金屬膜層，提高其光學性能；在電子零件、器件的製造和加工中應用金屬膜層，因爲金屬膜層具有良好的導電和隔電性能；以及在飛機、衛星等設備的表面形成防腐、增強光學性能、提高機械強度的金屬薄膜。