什麼是鍍膜靶材

鍍膜靶材是一種關鍵原材料，用於製備各種薄膜材料。

鍍膜靶材通常由高純度的金屬、合金或化合物製成，這些材料在真空環境中通過磁控濺射、蒸發或其他物理氣相沉積技術被用於在基板表面形成薄膜。這些薄膜可以是金屬的、半導體的、光學的等不同類型，包括但不限於金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜和碳化物薄膜。鍍膜靶材廣泛應用於半導體、光電子、信息存儲、光伏等多箇領域，在薄膜沉積技術中起着至關重要的作用。