光掩膜，又 稱光罩、掩膜版或光刻掩膜版，是微 電子 製造中光刻工 藝所使用的 圖形母版。
光掩膜的作用是在透明基板上形成不透明的遮光薄膜，形成掩膜 圖形，通 過曝光的方式， 將 這些 圖形 轉印到 產品基板上，如半 導 體晶 圓或液晶 顯示器的ITO玻璃基板。 這些 圖形承 載 著 設 計者的 電路 圖形和工 藝技 術信息，是 實 現批量生 產的 關 鍵工具。光掩膜是光刻工 藝中的 「底片 」，是微 電子 製造 過程中的核心技 術之一。
光掩膜，又 稱光罩、掩膜版或光刻掩膜版，是微 電子 製造中光刻工 藝所使用的 圖形母版。
光掩膜的作用是在透明基板上形成不透明的遮光薄膜，形成掩膜 圖形，通 過曝光的方式， 將 這些 圖形 轉印到 產品基板上，如半 導 體晶 圓或液晶 顯示器的ITO玻璃基板。 這些 圖形承 載 著 設 計者的 電路 圖形和工 藝技 術信息，是 實 現批量生 產的 關 鍵工具。光掩膜是光刻工 藝中的 「底片 」，是微 電子 製造 過程中的核心技 術之一。