技術工具
掩膜是一種技術工具，主要用於控制和影響圖像處理的過程。以下是詳細介紹：
在半導體製造中，掩膜（也稱為掩模）是採用光刻技術的重要部分，它是一種圖形「底片」，可以在矽片上的選定區域使用不透明的圖形模板進行遮蓋，這樣腐蝕或擴散等工藝步驟就只能影響選定區域以外的區域。
在數字圖像處理中，掩膜通常是一個與原始圖像大小相同的二值或布爾圖像，其中選定的區域被標記為1（或True），其餘區域被標記為0（或False）。掩膜用於指定圖像的某個區域，以便對這個區域進行某些特定的操作，而不影響圖像的其他部分。
掩膜的概念也存在於圖像濾鏡模板中，例如在處理遙感圖像時，可以通過n*n的矩陣對圖像進行像素過濾，突出顯示特定的地物或標誌。
此外，掩膜還套用於電池片的製造過程，其中感光材料在烘乾後的電池片上留下特定的圖形，用於阻擋和蝕刻過程。