氮化矽的折射率根據不同的膜厚和套用場景有所不同。以下是根據提供的信息整理的氮化矽折射率概覽：
第一層氮化矽，膜厚約10nm，折射率在2.4-2.6之間。
第二層氮化矽，膜厚約30nm，折射率在2.0-2.2之間。
第三層氮化矽，膜厚約45nm，折射率在2.0以內。
三層氮化矽薄膜，經過間斷性沉積工藝後，平均等效厚度在80-85nm，等效折射率為2.08-2.15。
一般情況下的折射率約為2.8。
另一種情況下的折射率為2.501。
對於特定膜厚（約80nm），折射率在2.10左右。
綜上所述，氮化矽的折射率受多種因素影響，包括膜厚、沉積工藝以及是否為多層結構。在實際套用中，應根據具體需求選擇合適的氮化矽薄膜參數以達到最佳效果。