石墨烯的製備方法主要包括以下幾種：
微機械剝離法。這種方法使用膠帶從高定向熱裂解石墨(HOPG)上剝離石墨薄片，然後將帶有石墨薄片的膠帶貼上到目標基體（如矽片）上，最後使用丙酮等溶劑去除膠帶，從而在基體上得到單層和少層的石墨烯。此方法操作簡單，但生產效率低，且石墨烯的尺寸和結晶度受限。
碳化矽外延生長法。在超高真空環境和高溫條件下，加熱SiC襯底，使矽(Si)原子升華，留下的碳(C)原子形成石墨烯層。這種方法適用於大規模生產，但設備成本高。
氧化還原法。首先將石墨氧化，得到氧化石墨烯，然後通過超聲或高速離心分散在溶液中，最後通過化學還原得到單層或多層的石墨烯。這種方法成本低廉，但可能引入雜質。
化學氣相沉積法(CVD)。使用含碳化合物（如甲烷）作為碳源，在高溫下使碳源裂解，並在基體表面沉積形成石墨烯。CVD法可以製備高質量、大尺寸的石墨烯薄膜，適用於大規模生產，但需要高溫反應條件。
這些方法各有優缺點，適用於不同的套用場景和需求。例如，對於需要高質量、大面積石墨烯的套用，CVD法是首選；而對於需要小面積、高質量石墨烯的套用，機械剝離法可能更合適。