高K材料是一種具有高介電常數的材料，通常用於電子元器件中以提高電容和穩定性。這種材料的K值（介電常數）通常比二氧化矽（SiO2）要高，後者是傳統的柵極絕緣材料，其相對介電常數為3.9。高K材料能夠更有效地存儲電荷，這在製造高性能電晶體時尤為重要，因為它們需要在柵極和晶體矽襯底之間的通道（源極和漏極之間）產生良好的場效應。
高K材料在電子領域的套用包括提高存儲器、處理器和功率器件的性能。在光學領域，它們也用於提高光學器件的透過率和解析度，如光學鏡頭、光纖和光電子產品。此外，高K無機/有機雜化納米材料還可以嵌入介電聚合物中，形成具有出色介電性能和高擊穿強度/高能量密度的納米複合材料，這些材料適合用於柔性和可拉伸電子套用。
目前，隨著電子信息產業和光學技術的快速發展，對高K材料的市場需求不斷增長，許多企業都在積極研發和生產這種材料。