ITO基板的清洗過程主要包括以下幾個步驟：
將ITO基板浸泡在丙酮溶液中，然後放入超音波清洗機中進行清洗，清洗時間約為30分鐘，這一步驟主要是為了溶解和去除附著在ITO表面的有機物質。
清洗完成後，將ITO基板取出，放置在熱板上進行高溫烘烤，溫度通常設定為120℃，烘烤時間大約為半小時，目的是去除ITO基板表面的有機溶劑和水汽。
烘烤完畢後，迅速將ITO基板轉移到UV-zone設備中，進行O3電漿處理，處理時間約為15分鐘，這一步驟是為了進一步清除ITO表面難以除盡的有機物或異物。
除了上述步驟外，還可以採用其他清洗方法，如低溫電漿清洗，這種方法適用於各種材料科學和微電子工業中的低溫化學反應，可以有效提高ITO膜與基板的附著力。在清洗過程中，還需要注意去除ITO基板表面的各種污染物，包括塵埃、油脂、塗料、鹼、鹽、鏽斑以及微生物等。