lpcvd是什麼

LPCVD（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）是低壓化學氣相沉積的一種技術，主要用於在芯片製造中創建各種薄膜。

這種技術可以在低壓條件下使氣態化合物在基片表面反應並沉積形成穩定的固體薄膜。由於工作時的壓力較低，氣體分子的平均自由程和擴散係數較大，這有助於在襯底表面獲得均勻性良好的薄膜沉積層。LPCVD可用於沉積多種類型的薄膜，包括氧化硅、氮化硅、摻雜薄膜以及金屬薄膜（如鎢或鈦），這些薄膜在集成電路製造中具有多種用途。