「Mask」（掩膜）的作用和套用範圍非常廣泛。以下是詳細介紹：
作為名詞，它指的是一種面具或口罩，用於遮擋面部。
作為動詞，它表示掩飾或掩蓋某物。
在計算機圖像處理中，Mask是一種技術，用於選擇、過濾或隱藏圖像中的特定區域。它通常是一個與原始圖像具有相同維度的矩陣，其中的元素決定是否保留、修改或遮擋對應位置的圖像像素。Mask的主要作用包括選擇區域、過濾數據、圖像融合、遮罩操作以及圖像處理等。
在半導體製造中，Mask（掩膜）也稱為掩模，用於在矽片上選定的區域中進行光刻，以控制晶片上特定區域的腐蝕或擴散等處理過程。
在視頻編輯和圖形設計中，Mask可以用於創建遮罩或蒙板效果，實現透明度、混合或融合效果，以及進行區域選擇和圖像編輯等功能。