MCVD法，即改進的化學汽相沉積法，是一種製造光纖預製棒的技術。這種方法的特點是使用高溫氫氧火焰在旋轉的石英管內來回移動，促使管內的物質發生氧化反應，形成粉塵狀的氧化物如SiO2或GeO2等，並沉積在管內壁上。這些沉積物最終形成一層均勻透明的石英玻璃膜層，厚度大約在8到10微米之間。MCVD法的沉積速度比傳統的CVD法提高了約100倍，這是因為反應劑濃度和溫度的提高使得同質反應和異質反應同時進行。此外，由於使用鹵化物作為反應劑，可以消除高濃度的OH離子，原料的純度極高。在管內密封條件下，污染也較少，因此可以製造出損耗極低的光纖。在沉積過程中，通過調節每層摻雜劑濃度，可以得到所需的任意折射率分布的坯俸。