N阱，也稱為N型埋層或N型隔離層，在半導體工藝中具有多種作用。其主要功能包括：
製造PMOS電晶體。N阱通常用作PMOS電晶體的襯底。
製造電阻。由於N阱的摻雜濃度較低，電阻率較高，因此可以用於製造電阻，這種電阻被稱為阱電阻。
構成二極體和製造寄生電晶體。N阱可以與襯底構成二極體，用於製造寄生PNP電晶體。
隔離器件。在更先進的工藝中，深N阱（DNW）用作隔離層，用於隔離器件，防止不同電路之間的干擾。
N阱的製作過程涉及在矽片上塗膠、使用掩模版進行光刻、氧化層生長、暴露矽片於施主原子下進行摻雜，以及後續的光刻膠去除步驟。這個過程精確控制了施主雜質的擴散，從而形成了符合設計要求的N阱。