電漿增強化學氣相沉積（PECVD）是一種在電子行業中廣泛套用的薄膜製備技術。它的主要作用是利用電漿激活氣體分子，並在其與固體表面相互作用時發生化學反應，從而形成薄膜。PECVD的原理基於化學氣相沉積（CVD），但通過引入電漿能量，可以提高反應速率、降低反應溫度、改變薄膜成分和結構，以及增強薄膜的附著力和緻密性。
PECVD的優勢在於其能夠在較低的溫度下進行，從而減少對底部基板材料的熱應力。它具有較高的反應速率和較好的控制性，可製備多種材料的薄膜。這使得PECVD在電子行業中有廣泛套用，包括薄膜電晶體的製造、太陽能電池的製備、顯示器件的製造和光學薄膜的製備等領域。
在太陽能電池的製造中，PECVD技術扮演重要角色。它可用於製備薄膜太陽能電池的關鍵組件，如矽薄膜太陽能電池、非晶矽太陽能電池等。在矽片表面鍍上一層深藍色的氮化矽膜，可以充分吸收太陽光，降低反射，並且氮化矽膜有鈍化的作用，保護電池片不受污染。
此外，PECVD設備在製造業、醫學和材料領域也有著廣泛的套用。例如，在製造業中用於生產電晶體、光電器件、陶瓷等；在醫學領域用於心血管疾病的治療，可以製造出具有生物相容性的薄膜材料；在材料領域用於製造高性能薄膜材料、納米材料等。