光刻掩膜版（也 稱 為光罩或掩模版）是微 電子 製造中的一 種 關 鍵工具。
光刻掩膜版的主要作用是在光刻工 藝中， 將 設 計的 電路 圖形精 確地 轉移到半 導 體晶 圓或其他基板上。 這 種掩膜版通常由石英玻璃作 為基底，上面覆 蓋有金 屬 鉻或 類似金 屬的 圖案，以 實 現 對光 線的遮 擋或透 過。在光刻 過程中，光 線通 過掩膜版上的 圖案照射到 塗有光刻 膠的晶 圓上， 從而在晶 圓上形成 電路 圖形的 「影子 」， 這 樣，晶 圓上就留下了 電路 圖形的印 記。
光刻掩膜版的精度和 穩定性 對 晶片 製造的 質量和效率有直接影 響。 隨 著技 術的 進步，特 別是 電晶體尺寸的不 斷 縮小，光刻掩膜版的 製造 變得更加 複雜和精 確。它 們不 僅 用於 積體電路(IC)， 還 廣泛 套用 於平板 顯示器(FPD)、印刷 電路板(PCB)等 領域。