光刻 機
光刻 設 備，也 稱 為光刻 機，是半 導 體 製造中 用於 製造微 電子 晶片和半 導 體器件的 關 鍵 設 備。
光刻 設 備的工作原理是利用光刻 膠 進行投影曝光， 將 設 計的 圖案精 確地移植到 矽片上，以形成 電路 圖案。 這 個 過程涉及使用一 種特殊的光源（如紫外 線或 電子束），通 過掩膜版 將 圖案投射到 矽片上，然 後通 過 後 續的曝光、 顯影、刻 蝕等工 藝 過程， 將 設 計 圖案精 細加工到 矽片上。光刻 設 備的性能直接 決定了 晶片的 精準度和量 產能力，是半 導 體工 業中的 「皇冠 」。
光刻 設 備的技 術含量非常高，它集合了 數 學、光 學、流 體力 學、高分子物理 與化 學、表面物理 與化 學、精密 儀器、 機械、自 動化、 軟體、 圖像 識 別等 領域的技 術。 隨 著技 術的 進步，光刻 設 備的性能也在不 斷提高，能 夠 製造出更小、更 複雜的 圖案，推 動了半 導 體工 業的 發展。