光科技是一箇廣泛的領域，涵蓋了與光相關的各種技術和應用。在半導體行業中，光科技主要指的是光刻技術，這是一種用於製造電子芯片的關鍵技術。光刻機是實施光刻技術的工具，它能夠在芯片上精確地繪製出微小的電路圖案。這些圖案的尺寸非常小，例如在先進的工藝中，可能達到幾納米的精度。光刻機的性能直接影響到芯片的製造質量和成本。
中國的光刻技術在其發展歷史上曾經取得過顯著的成就。上世紀五十年代到八十年代，中國在這一領域取得了顯著的進步，尤其是在電子科技技術方面。然而，隨着時間的推移，中國的光刻技術逐漸落後於國際水平，並且在成本和性能方面遇到了挑戰。這導致中國開始從國外購買光刻機，而不是繼續自主研發和生產。
儘管如此，中國並沒有停止對光刻技術的研發。2002年，上海微電子裝備有限公司的成立標誌着中國在光刻機研發上的重新投入。國家也開始重視對光刻機的研究，這使得光刻機技術在中國得到了進一步的發展。
除了半導體行業中的應用，光科技還包括其他多箇領域，如移動通信、室內定位導航系統、智能交通管控系統、水聲通信等。這些應用利用光的特性來實現高速、高密度的信息傳輸和處理，以及提供各種便捷的服務和解決方案。