高反差保留是一種在圖像處理中常用的技術，主要用於增強圖像的細節和對比度。以下是使用高反差保留的步驟：
複製初修圖層。首先，複製初始的圖像圖層，這是爲了保留原始圖像以供後續編輯使用。
應用高反差保留濾鏡。然後，對複製的圖層應用“高反差保留”濾鏡。這個濾鏡會強調圖像中的邊緣和細節，其效果由半徑參數控制，半徑值越大，保留的細節就越明顯。
反向處理。在應用高反差保留後，進行反向處理，這可以通過按Alt鍵並點擊圖層來實現，反向處理可以模糊圖像中的某些細節，如痘痘、粉刺等。
添加蒙版。爲了保護圖像中的某些區域（如眼睛、牙齒、鼻孔、髮絲等）不受模糊影響，需要添加蒙版並使用黑色畫筆塗抹不需要模糊的區域。
調整混合模式和不透明度。根據需要，可以調整圖層的混合模式（如柔光、疊加或線性光）和不透明度，以達到最佳效果。
重複操作。如果需要更完美的磨皮效果，可以重複上述步驟。
通過這些步驟，可以有效地利用高反差保留來提升圖像的質感和細節。