刻蝕是什麼

材料去除技術

刻蝕，也稱爲蝕刻(etching)，是一種材料去除技術，主要用於半導體制造、微電子IC製造和微納製造等領域。

刻蝕的目的是通過化學或物理方法，有選擇地從目標材料中去除不需要的部分，以製造出特定的形狀和結構。刻蝕可以分爲溼法刻蝕和幹法刻蝕，其中溼法刻蝕涉及使用化學溶液來溶解或腐蝕材料，而幹法刻蝕則利用物理方法，如等離子體，來去除材料。

刻蝕通常與光刻工藝結合使用，在光刻膠上形成圖案後，刻蝕技術用於去除光刻膠下方的材料，以複製光刻膠上的圖案到基底材料上。